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      鈍化膜理論--化學拋光機理的幾種理論

      發布時間:2020-08-11發布人:豫磨精飾

       
      提出鈍化膜理論的專業人士認為,金屬在化學拋光液中的溶解(腐蝕)可作為電化學過程來看,由于金屬表面各部分的物理和電化學性質的不均一性,使得金屬表面上有許多電位不相同的部分,即金屬表面存在著微觀凸凹不平和或多或少的其他元素和雜質,使金屬表面發生局部電位的高低不平,電位正的部分會發生還原反應,電位負的部分發生氧化反應,即形成了瞬時閉合原電池,產生腐蝕電流,當腐蝕電流密度達到相當高時,就有可能在金屬表面上形成鈍化膜,這種由腐蝕到鈍化的過程與電拋光時的電流原電位曲線十分相似(見圖,曲線的段為腐蝕過程,月兌段為鈍化膜的形成過程,月段為在已形成的鈍化膜內發生的拋光過程,在鈍化膜內微觀凸起部,由于反應活性高而被優先溶解,此一過程反復進行即可得到光亮的金屬表面。
       
      國內專業人士曾發現在化學拋光時,被拋光的金屬表面上有肉眼看不到的氧化物形成,而且拋光時陽極的溫度和電位都會急劇上升,拋光面的耐蝕性比未拋光的面有所提高。這些均表明拋光時拋光面的確易形成固相的鈍化膜。
       
      方景禮等開發的黃銅在混合液中的兩步拋光法,第一步先在高濃度低濃度的溶液中進行氧化處理,使黃銅表面形成一層棕色氧化膜,然后在低濃度液中退去氧化膜,即可獲得十分光亮的拋光表面。黃銅在第一步溶液中氧化的時間越長,氧化膜的顏色越深,氧化膜的厚度越厚,所得拋光面的光亮度越高。這表明,銅在遭受氧化處理時會形成氧化物型固體膜或鈍化膜,此時金屬的溶解是在緊密的氧化膜內進行的,使表面的各個部分均發生微觀整平,這種表面的微觀整平的最終結果,就使金屬表面變得光亮。
       

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