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          雙層膜理論--化學拋光機理的幾種理論

          發布時間:2020-08-11發布人:豫磨精飾

           
          早年,用電子顯微鏡觀察了鋁在液中的化學拋光全過程,發現鋁表面首先被平滑,其后才出現光亮。此研究結果表明電拋光的雙層膜理論也適于化學拋光。
           
          雙重膜理論認為,在拋光初期黏液膜起了決定性的作用,即平滑作用,可使金屬表面的粗糙度在原來基礎上明顯提高。到拋光后期,由于表面粗糙度較高,黏液膜難以形成,而容易形成更加致密的鈍化膜或固體膜,此時才能進行更加細致的微觀整平,因而使零件達到更高的光亮度。
           
          從拋光狀態的直接觀察,平滑化是除去表面形狀的幾何學上的或宏觀的不平整(即凹凸),而光亮化則被認為是由于抑制了特定結晶面的選擇性溶解而達到的微觀的整平。
           
          綜上所述,無論是黏液膜理論,還是鈍化膜理論,以及兩者結合所形成的雙重膜理論,金屬為防止腐蝕而達到拋光的目的,顯然必須在金屬表面上形成一層“障礙層”,以使表面各部分的溶解速度由開始的不均勻到逐步接近最后才達到光亮的目的。“障礙層”可以由金屬溶解產物形成的黏液或氣原液層構成,或是鈍化而形成氧化物固體膜,也可能是先形成黏液膜再形成氧化物膜,再由此構成“雙重障礙層”。
           
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